3月17日，光刻胶概念震荡走高，涨幅居前。截至收盘，光刻胶板块大涨4.72%。其中，容大感光(300576)、彤程新材(603650)、江化微(603078)一字涨停，晶瑞电材、南大光电(300346)、华懋科技(603306)等大幅跟涨。

据了解，光刻胶是一种有机化合物，受特定波长光线曝光作用后其化学结构改变，在显影液中的溶解度会发生变化，光刻技术用于电路图形生成和复制，是半导体制造最为关键的技术。

数据显示，全球光刻胶行业主要被JSR、东京应化、罗门哈斯、信越化学、及富士电子材料占据，前五大家占据了全球光刻胶领域的86%；如若聚焦到全球半导体用光刻胶领域，前六大家(主要以日本为主)实现了对于市场的87%的占据。

2021年日本福岛地震导致光刻胶龙头企业信越化学的产能受限，对部分晶圆厂停止供货，在全球新增晶圆厂对光刻胶需求旺盛的背景下，光刻胶供应的紧张态势加剧。业内人士分析称，此次日本发生强震，同样引发市场对光刻胶供应的担忧。

近年来，在多项国家政策支持和大基金注资的背景下，国内厂商也在积极研发中高端产品、加速客户和产品导入、扩建相关产能，从而抓住国产化的契机。目前已有少数企业已开始崭露头角，并实现从0到1的突破。

2020年，上市公司华懋科技（603306.SH）通过投资徐州博康切入中高端半导体光刻材料领域。作为半导体领域的关键生产资料，光刻胶的发展对中国半导体领域的自主可控有着重要的战略意义。

成立于2010年3月的徐州博康是一家集研发、生产、经营中高端光刻胶、光刻胶单体和光刻胶树脂为主的国家高新技术企业，有着极强的研发实力。当前，公司已经实现从电子束光刻胶、ArF干湿法产品，KrF系列产品，i线系列产品的量产，且上游原材料100%自产。

值得指出的是，博康研发的干法ArF产品HTA13X及HTA12X系列可应用至90nm/65nm/55nm工艺节点，湿法ArF产品HTA11X系列可应用至40nm/28nm工艺节点。此外，已有10+种KrF光刻胶，主要应用在55-14nm的节点，其中部分款已经实现量产，更多款在送样测试阶段，正在申请的专利有30多种，相关产品创国内领先水平。

不仅如此，徐州博康的研发实力也得到了国家相关部门的认可。2021年工信部公示了关于建议支持的国家级专精特新“小巨人”企业和国家（或省级）中小企业公共服务示范平台名单（第一批第一年），徐州博康入选。

当前，实现我国中高端半导体光刻胶国产替代迫在眉睫。在此背景下，博康将积极把握时代发展要求和行业机遇，持续扩展树脂品类、光刻胶种类，突破技术壁垒，打破行业垄断，实现中高端光刻胶国产化，解决“卡脖子”问题。

（责任编辑：刘畅 ）